半导体国产迎来破局！光刻胶等实现突破，未来将增长5-10倍
在当前新质生产力的发展背景下，半导体行业成为了必须要突破西方封锁的关键点之一，尤其是半导体细分中的离子注入和光刻胶环节，之前的国产化率都不足5%，但是在现阶段，存储芯片，光刻胶等细分领域已经实现技术突破，开始进入产能爬坡阶段，大规模的国产替代已经开始。就说说目前我国的光刻胶吧，现在我国光刻胶产业目前仍处于初级阶段，尤其在高端光刻胶领域，如OLED显示面板和集成电路用光刻胶等，仍需大量进口。国内光刻胶主要集中在PCB光刻胶、TFT-LCD光刻胶等中低端产品上。KrF国产化率只有10%，ArF不到3%。
在KrF领域，目前上海新阳和强力新材是此领域的龙头企业。
上海新阳：作为KrF光刻胶的龙头股之一，上海新阳在光刻胶领域具有显著的市场地位。公司致力于打破国外垄断，其KrF光刻胶产品已取得订单，目前已知krF光刻胶已有订单客户超3家。并且公司已立项研发集成电路制造用高分辨率193nm ArF光刻胶及配套材料与应用技术。此外，公司还在积极建设合肥第二生产基地项目，以进一步扩大产能。
强力新材：同样是KrF光刻胶的领军企业，强力新材在光刻胶领域也取得了不俗的成绩，PCB干膜光刻胶引发剂全球市场份额位居第一。公司在KrF光刻胶领域一般是用光酸、光酸中间体以及聚合物用单体的生产及销售。其光酸中间体已商业化量产，光酸及单体已向主要KrF光刻胶企业认证并销售公司的营业总收入和净利润均保持增长态势，显示出强劲的发展势头。
在ArF光刻胶方面，彤程新材和南大广电两大龙头企业处于领先位置。
彤程新材：彤程新材在ArF光刻胶领域具备显著的技术研发实力。公司已完成部分ArF光刻胶型号的开发，并在2024年实现了量产能力的突破。其首批ArF光刻胶的各项出货指标能对标国际光刻胶大厂产品。彤程新材通过全资子公司彤程电子在上海化学工业区投资建设了年产1.1万吨半导体、平板显示用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目。其中，半导体光刻胶产能部分包括年产300/400吨的ArF及KrF光刻胶量产产线。
南大广电：公司在ArF光刻胶领域取得了重要突破，多款ArF光刻胶产品已经通过国内主要集成电路芯片制造企业的验证，南大光电通过验证的三款ArF光刻胶已有少量销售，质量稳定。南大光电在光刻胶技术研发方面始终坚持从原材料到产品的完全自主化。公司光刻胶研发中心具备了研制功能单体、功能树脂、光敏剂等光刻胶材料的能力，能够实现从光刻胶原材料到光刻胶产品及配套材料的全部自主化。
在EUV光刻胶领域，目前我们的进程还是为0，因为ASLM不向我们出售EUV光刻机，所以这方面我们还是任重而道远。
就目前我国的光刻胶市场行情发展来看，情况还是不错的。近年来，随着国内外晶圆厂产能扩张项目的逐步落地，全球半导体光刻胶市场需求呈现稳步向上态势。在中国，光刻胶市场规模也持续增长。根据公开数据，2021年国内光刻胶产业市场规模为93.3亿元，同比增长11.07%；
2022年市场规模达到98.6亿元，同比增速达5.68%。预计随着技术的进步和市场的扩大，光刻胶市场规模将继续增长。
尽管国内光刻胶产业在发展过程中面临诸多挑战，如技术壁垒、市场竞争等，但也面临着前所未有的发展机遇。国内企业应抓住机遇，加大研发投入和市场拓展力度，不断提升自身在光刻胶市场的竞争力。随着国内半导体产业的快速发展和晶圆厂产能扩张项目的推进，光刻胶市场具有巨大的发展潜力。未来，国内光刻胶产业有望通过技术创新和国产替代等方式，实现更快的发展。
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